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產品詳細頁
雙波段低 GDD 超快/阿秒多層反射鏡

雙波段低 GDD 超快/阿秒多層反射鏡

  • 產品型號:
  • 更新時間:2023-12-21
  • 產品介紹:雙波段低 GDD 超快/阿秒多層反射鏡
    TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡在常見的 Yb 摻雜激光諧波頻率上保持高反射率和接近零的群延遲色散。 利用離子束濺射鍍膜技術,這些反射鏡將使用其他傳統鍍膜工藝時常見的散射和吸收損失降至最/低。 TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡通常用于光束控制應用,因為它們將保持超短脈沖持續(xù)時間,而使用更傳統的激光反射鏡時很難保持這種持續(xù)時間。
  • 廠商性質:代理商
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產品介紹

品牌其他品牌價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

雙波段低 GDD 超快反射鏡

  • 用于超快光束轉向的高反射率和低 GDD

  • 離子束濺射鍍膜最大限度地減少散射和吸收損失

  • 設計波長范圍內的近零群延遲色散

TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡在常見的 Yb 摻雜激光諧波頻率上保持高反射率和接近零的群延遲色散。 利用離子束濺射膜技術,這些反射鏡將使用其他傳統鍍膜工藝時常見的散射和吸收損失降至最/低。 TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡通常用于光束控制應用,因為它們將保持超短脈沖持續(xù)時間,而使用更傳統的激光反射鏡時很難保持這種持續(xù)時間。

通用規(guī)格

入射角 (°):45鍍膜類型:
S1: Dielectric
S2: Stress-compensating
波長范圍 (nm):500 - 540, 1000 - 1070
后表面:Commercial Polish鍍膜規(guī)格:
Rs>99.9% @500-540nm;
Rp>99.8% @505-530nm;
Rs>99.9% @1000-1070nm,
Rp>99.8% @1000-1070nm
基底:Fused Silica
平行度(弧分):<3
有效孔徑 (%):>90
典型應用:Beam transport of 1st and 2nd harmonic of Yb:doped lasers
<35fs2@ 500 - 540nm (s-pol)
<50fs2@ 505 - 530nm (p-pol)
<20fs2@ 1000 - 1070nm (s-pol)
<40fs2@ 1000 - 1070nm (p-pol)
鍍膜:Ultrafast (500-540, 1000-1070nm)
表面質量:10-5GDD Specification:
設計波長 DWL (nm):515, 1030

產品型號

標題產品編碼
515, 1030nm, 12.7mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror#17-286
515, 1030nm, 25.4mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror#17-287
515, 1030nm, 50.8mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror#17-288

UltraFast Innovations (UFI) EUV 阿秒多層反射鏡

  • 設計用于 330 阿秒脈沖 @ 65eV (19nm)

  • 具有 38% 峰值反射率的多層鍍膜

  • ≤1? 表面粗糙度超拋光基材

  • 13.5nm 設計的 EUV 平面鏡和 EUV 球面鏡也可提供

UltraFast Innovations (UFI) 極紫外 (EUV) 阿秒多層反射鏡專為控制、聚焦和整形阿秒脈沖而設計。 它們的多鍍膜 65eV (19nm) 為中心,帶寬為 6eV (1.8nm),為 s 偏振光提供 38% 的峰值反射率。 這些反射鏡支持時間持續(xù)時間為 330 阿秒的 EUV 脈沖。 UFI 極紫外 (EUV) 阿秒鏡非常適合基于高次諧波 (HHG)、自由電子激光器 (FEL) 或其他量子光學應用的阿秒脈沖生成和整形。 提供直徑為25.4mm的平面鏡和凹面鏡; 如果您的應用需要具有定制中心能量、帶寬或其他規(guī)格的 EUV 多層反射鏡,請聯系我們。

通用規(guī)格

直徑 (mm):25.40 ±0.13基底:Fused Silica
后表面:Commercial Polish鍍膜規(guī)格:Rs > 38% @ 65eV/19nm
表面質量:10-5鍍膜:EUV Multilayer (19nm)
入射角 (°):5有效孔徑 (%):80
設計波長 DWL (nm):19邊緣:Fine Ground
表面粗糙度(埃):<1Center Energy (eV):65 ±2
Bandwidth (eV):6Supported Pulse Duration:330 attoseconds
邊緣厚度 ET (mm):6.35 ±0.20

產品型號

標題產品編碼
25.4mm Dia., 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Flat Mirror#16-765
25.4mm Dia. x 250mm EFL, 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Concave Mirror#16-766
25.4mm Dia. x 500mm EFL, 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Concave Mirror#16-767

技術數據

超快增強型銀膜離軸拋物面 (OAP) 反射鏡

  • 用于 Ti:sapphire 和 Yb:doped 激光器的超快增強型銀膜

  • 600 - 1050nm 范圍的群延遲色散低 (0±20fs2)

  • <50? RMS 表面粗糙度,以最/大程度地減少散射

TECHSPEC® 超快增強型銀膜離軸拋物面 (OAP) 反射鏡用于準直或聚焦指/定偏移角度的入射光。這些反射鏡鍍有超快增強型銀膜,在 600 - 1050nm 范圍內提供 >99% 的反射率,同時保持 0 ±20fs2的低群延遲色散 (GDD)。這些反射鏡的離軸設計將焦點與光束路徑分開,從而在焦點周圍提供更多交互空間,而不會干擾入射光束。TECHSPEC 超快增強型銀膜 OAP 反射鏡非常適合聚焦來自中低功率超快激光器的激光,包括 Ti:sapphire 和 Yb:doped 光纖激光器,同時最大限度地減少超快脈沖的時間擴展。帶有垂直于光軸的孔的安裝板可用于將這些反射鏡安裝到臺式系統中。

通用規(guī)格

焦距容差 (%):±1涂層規(guī)格:
Ravg>99% @ 600 - 1000nm, 0°
Rs>99% @ 540 - 1000nm, 45°
Rp>98.5% @ ~730 - 870nm, 45°
波長范圍 (nm):600 - 1050
面形計算 (RMS):λ/4
偏離角度 (°):90鍍膜類型:Ultrafast Enhanced Silver
表面粗糙度(埃):<50 RMS反射波前, RMS:λ/8
表面質量:80-50基底:Aluminum 6061-T6
涂層:Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)

產品型號

Dia. (mm)EFL (mm)涂層產品編碼
12.7012.70Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-133
12.7025.40Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-134
12.70203.20Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-138
25.4025.40Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-139
25.4050.80Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-140
25.40203.20Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-146
50.8050.80Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-147
50.80190.60Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)#17-152

技術數據

600-1050nm Ultrafast-Enhanced Silver


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